什么是介孔二氧化硅材料?
介孔二氧化硅(MSN)材料的合成可以追溯到1970年,之后美孚研发公司在1992年已经成功使用液晶模板机制从铝硅酸盐凝胶中合成介孔固体,称为MCM-41。按照国际纯粹与应用化学联合会的定义,介孔材料被定义为一个具有2-50 nm范围内的孔尺寸和孔隙的有序结构。这些的孔径可以通过选择使用的表面活性剂来改变和调节。目前常见的介孔二氧化硅纳米材料即是MCM-41。通常,MCM-41为六边形,孔径为2.5至6 nm。它是药物开发中使用较多的材料之一。研究者通过改变起始前体和反应条件,合成了其他具有介孔性质的材料。如,通过更改前提和条件合成的MCM-48具有立方排列,而MCM-50具有薄片状排列。
图1. 不同类型的中孔二氧化硅纳米粒子(MSN)的模型。
介孔二氧化硅的合成方法
由于Stober是开发了用于合成球形单分散微米级二氧化硅颗粒的化学反应系统,所以如今常用的MSN合成方法被称为Stober合成。后来该合成方法不断进行改进,用以生产单分散,有序的纳米级二氧化硅颗粒。如,通过Grun等人改进,逐步产生出具有相似性质的球形的MCM-41结构。
蒸发诱导的自组装(EISA)是合成MSN的另一种方法。在这项技术中,所有的反应物在蒸发过程中都经历浓度的变化。这导致二氧化硅前体的液晶样模板的组成。用这种方法,在乙醇/水溶剂中用表面活性剂制备所需浓度的前体制剂。通过注入气雾发生器将其转化为单分散液滴。液滴尺寸可以通过改变其孔口来控制。干燥过程中的乙醇蒸发会导致胶束形成,并且二氧化硅表面活性剂会共组装成液晶中间相。
为了使MSN成为适合的药物输送载体,颗粒大小必须均匀。孔体积必须较大才能增强加载能力。这些参数可以在合成过程中通过改变反应混合物的pH值,温度,表面活性剂和二氧化硅源的浓度来控制。MSN的合成通过液晶模板机制进行,其中二氧化硅在表面活性剂胶束表面发生水解和缩合,进而使液体的二氧化硅(原硅酸四乙酯)变换到固体二氧化硅。
介孔二氧化硅的形成机制研究
透彻了解MSN的形成机理有助于获得具有所需药物递送特性的颗粒。关于该机理的早期报道表明,二氧化硅网络在非离子表面活性剂的整个液晶相中形成。研究表明,水解二氧化硅吸附在胶束周围,或者在SBA-15(介孔分子筛)的情况下,表面活性剂和二氧化硅在初始阶段相互作用并形成核壳状结构。
图2. Mobil 41号结晶材料(MCM-41)的形成机理。
利用时间分辨小角度中子散射(SANS)研究MSN的形成是一种常见的办法。这种方法能够预测与观察成型过程同时发生的变化。通过观察可以发现,在二氧化硅源四甲基原硅酸盐(TMOS)的早期水解期间,硅酸盐离子在生长阶段倾向于吸附在表面活性剂胶束周围。表面活性剂周围的电荷因二氧化硅前体的初始水解和缩合而减少,导致胶束间的排斥力降低,从而允许进一步形成小的二氧化硅聚集体。约400 s后,反应混合物含有足够分散的六角形有序的二氧化硅介孔,这已通过透射电子显微镜(TEM)研究得到证实。
此外,也有研究人员提出了另一种称为“溶胀收缩”的机制。该机制认为,作为油状单体的四乙基原硅酸盐(TEOS)在静态条件下显示出相分离,而在剧烈搅拌下,获得了乳液状体系。起初,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)形成椭圆形胶束,其内芯由疏水尾部组成。当添加TEOS时,它被溶解在疏水核中,从而增大了胶束,并导致胶束形状从椭圆形转变为球形。在水解TEOS时,单体变为亲水性并释放到水性环境中。带负电的TEOS水解单体通过静电吸引吸附到带正电的CTAB胶束上。疏水核中TEOS完全消耗后,胶束会收缩并变小。随着水解和缩合的过程同时发生,胶束不断收缩,直到所有TEOS都水解并在胶束周围形成二氧化硅壳。当单独使用原硅酸四乙酯(TEOS)作为前体,并且不存在其他溶剂(如乙醇)时,该机理可以适用。
参考文献:
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